| 产品特性：连续监测 | 是否进口：否 | 产地：西安 |
| 加工定制：是 | 品牌：陕西博纯 | 型号：PUE-9000 |
| 测量范围：量程可定 | 测量精度：≤±1％F.S | 分辨率：0.01×10-6 |
| 电源电压：220VAC±10%，50Hz±5% | 用途：过程控制 |
轧钢加热炉一氧化碳原位激光分析仪
仪器概述
PUE-9000系列半导体激光气体分析仪，是基于半导体激光吸收系列光谱技术（DLAS）的高性能产品。主要应用在工业过程气体分析、生物发酵和食品等行业。
PUE-9000系列分析仪具有安装简便、维护简单、维护周期长、可靠性高、适应性强等特点。
激光过程气体分析系统基于国际***的半导体激光吸收光谱技术（DLAS），即“单线光谱”测量技术。系统采用可调制的半导体激光器为发光光源，通过调制半导体激光器的工作电流强度来调制激光频率，使激光扫描范围略大于被测气体的单吸收谱线。从而使半导体激光器发射的特定波长的激光束在穿过测量管时，被被测气体选频吸收，从而导致激光强度产生衰减。于是系统利用不同气体成分均有不同的特征吸收谱线及气体浓度和红外或激光吸收光谱之间存在的Beer-Lambert关系，通过检测吸收谱线的吸收大小（即激光强度衰减信息）就可以获得被测气体的浓度。
但不同的是，传统非分光红外分析技术使用谱宽很宽且固定波长的红外光源，而DLAS技术使用谱宽非常小(也就是单色性非常好) 且波长可调谐的半导体激光器作为光源。因此，DLAS技术具有传统非分光红外分析技术无法实现的一些性能优点。
不受背景气体交叉干扰
半导体激光器发射的激光谱宽小于0.0001nm，是红外光源谱宽的1/106，远小于红外光源谱宽和被测气体单吸收谱线宽度，其频率调制扫描范围也仅包含被测气体单吸收谱线（半导体激光吸收光谱技术也因此被称为单线光谱技术），因此成功消除了背景气体交叉干扰影响。
不受被测气体环境参数变化干扰
被测气体环境参数—温度或压力变化通常导致谱线强度和展宽发生变化，对温度或压力信号不加修正就会影响测量结果。而DLAS技术是对被测气体单一吸收谱线进行分析，因此可较容易地对温度、压力效应进行修正。为此系统内置了温度和压力自动修正功能，能根据实际测量得到的被测气体温度和压力对气体成分测量值进行自动修正，从而可实现***的在线气体分析。
综上所述，单线光谱技术、激光波长扫描技术和环境参数自动修正技术使DLAS技术可以被用于实现气体的在线分析，因此比非分光红外等传统采样气体分析系统具备更强的环境适应性。
